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  • 本发明涉及衣物处理设备技术领域,具体提供一种衣物处理设备及其控制方法,旨在解决现有衣物处理设备对衣物进行杀菌除味的效果较差的问题。为此,本发明的衣物处理设备包括衣物容纳腔、活氧发生装置、光源装置、管道、第一风机和第二风机;管道的两端均与衣物...
  • 本发明涉及衣物处理设备技术领域,具体提供一种衣物处理设备,旨在解决现有衣物处理设备对衣物进行杀菌除味的效果较差且容易损坏衣物的问题。为此,本发明的衣物处理设备包括门体、衣物容纳腔、密封支撑件和光源装置,门体设置成能够控制衣物容纳腔与外界的连...
  • 本发明涉及衣物处理技术领域,具体提供一种衣物处理设备及其控制方法,旨在解决现有衣物处理设备对衣物进行杀菌除味的效果较差且容易损坏衣物的问题。为此目的,本发明的衣物处理设备包括:特定的光源装置将光照进衣物容纳腔,活氧发生装置向衣物容纳腔内提供...
  • 本发明涉及衣物处理设备技术领域,具体提供一种衣物处理设备,旨在解决现有衣物处理设备对衣物进行杀菌除味的效果较差且容易损坏衣物的问题。为此目的,本发明的衣物处理设备包括衣物容纳腔、光源装置、活氧发生装置和散热装置,光源装置设置成能够将全光谱太...
  • 本发明涉及洗涤设备技术领域,具体提供一种用于洗涤设备的进气装置和洗涤设备,旨在解决现有的洗衣机无法在保证洗衣机排水通畅的同时避免洗衣机溅水的问题。为此目的,本发明的洗涤设备包括:外桶,外桶上设置有进气孔,用于使外桶内部的空气与大气连通;进气...
  • 本发明涉及衣物处理设备技术领域,具体提供一种衣物处理设备及其门体,旨在解决现有衣物处理设备内的水蒸汽容易进入到显示板的安装槽内导致显示板短路的问题。为此目的,本发明的衣物处理设备包括壳体,壳体的一侧具有敞口,门体与壳体连接以便开闭敞口,门体...
  • 本发明公开了一种洗涤设备投放模块及洗涤设备,投放模块包括内部形成容纳腔的投放盒,其上方具有用于向容纳腔进水的进水水路,还包括:投放管道,一端连通进水水路,另一端向容纳腔内延伸、设置在容纳腔内;进水管道,设置在容纳腔外,其一端与进水水路连通,...
  • 本发明涉及智能家电技术领域,公开一种洗涤剂投放装置、衣物处理设备及洗涤剂投放检测方法。该洗涤剂投放装置包括洗涤剂盒和检测组件,洗涤剂盒内形成有用于容纳洗涤剂的容纳腔;检测组件包括检测件和浮块,检测件设置于容纳腔内,浮块套设于检测件的检测杆上...
  • 本发明涉及衣物处理技术领域,具体提供一种衣物处理设备,旨在解决现有衣物处理设备对衣物进行杀菌除味的效果较差且容易损坏衣物的问题。为此目的,本发明的衣物处理设备包括箱体和氙气灯组件,箱体内形成有衣物容纳腔,氙气灯组件包括相连的氙气灯和脉冲装置...
  • 本发明涉及衣物处理技术领域,具体提供一种衣物处理设备及其控制方法,旨在解决现有衣物处理设备杀菌除味效果较差且容易损坏衣物材质的问题。为此目的,本发明的衣物处理设备包括衣物容纳腔、活氧发生装置和紫外线UVC照射装置;活氧发生装置能够向衣物容纳...
  • 本发明涉及衣物处理技术领域,具体提供一种衣物处理设备及其控制方法,旨在解决现有衣物处理设备杀菌除味效果较差且容易损坏衣物材质的问题。本发明的衣物处理设备包括衣物容纳腔、出风口、活氧发生装置、紫外线照射装置和过滤装置;出风口和衣物容纳腔相连通...
  • 本发明涉及洗衣机技术领域,具体提供一种洗衣机,旨在解决现有衣物处理设备杀菌除味效果较差且容易损坏衣物材质的问题。为此,本发明的洗衣机包括衣物处理桶、活氧发生装置和光源装置;活氧发生装置设置成能够向衣物处理桶内提供活氧;光源装置设置成能够照射...
  • 本发明涉及衣物处理设备技术领域,具体提供一种衣物处理设备,旨在解决现有衣物处理设备对衣物进行杀菌除味的效果较差且容易损坏衣物的问题。为此目的,本发明的衣物处理设备包括衣物容纳腔、出风口、活氧发生装置、光源装置和过滤装置;出风口和衣物容纳腔相...
  • 本申请涉及一种衣物处理设备控制方法、装置、设备和介质。该方法包括针对当前衣物处理程序,获取瞬时进水流量;判断开始进水后预设时长内多次获取的所述瞬时进水流量是否连续N次小于历史进水流量,其中,所述N为整数,所述历史进水流量是衣物处理设备上一次...
  • 本发明公开了一种洗涤设备的控制方法及洗涤设备,所述洗涤设备包括:盛水筒;线屑过滤装置,与盛水筒连通,用于过滤携带线屑的洗涤水;线屑过滤装置具有线屑排出口,用于将从洗涤水中过滤出的线屑随水流排出;所述洗涤设备还包括线屑排出水路,连接在所述线屑...
  • 本发明公开了一种洗涤设备及其二次洗涤模式控制方法,接收二次洗涤模式控制信号;进行第一次称重;确定洗涤水量L1和次洗涤剂投放量a;进水并投放洗涤剂;进行第一次洗涤;第一次洗涤完成后进行第一次脱水;在第一次脱水后进行第二次称重;根据洗涤水量L1...
  • 本发明公开了一种沉积钨的方法及其半导体基片和气体供给系统,所述沉积钨的方法包含:第一沉积步骤,在基片的凹陷结构的侧壁和底部沉积第一厚度的钨材料层,第一厚度为50~1100埃;处理步骤,其包含多个脉冲周期,所述处理步骤中以脉冲的方式向基片表面...
  • 本发明公开了一种钨的沉积方法及等离子体设备,钨的沉积方法包括:提供一基片,所述基片包含特征区;沉积步骤:向所述基片表面通入沉积气体和辅助气体;所述沉积气体至少包括含钨前驱体及还原气体,在所述特征区内沉积钨材料层;所述辅助气体至少包括氮气;所...
  • 发明名称一种用于高重频飞秒激光的逐层退火二氧化铪/二氧化硅增透膜摘要本发明公开了一种用于高重频飞秒激光的逐层退火二氧化铪/二氧化硅增透膜的制备方法。其制备流程如下:1.利用射频磁控溅射镀膜系统,在清洗后的熔石英基底上沉积二氧化铪薄膜,并将薄...
  • 本发明涉及废催化剂回收领域,公开了一种从废加氢精制催化剂中回收钼的方法。该方法包括以下步骤:(1)将含钼废加氢精制催化剂在惰性气氛下进行焙烧处理;(2)将步骤(1)得到的焙烧产物与碱溶液进行接触反应,然后在300‑900W的功率下进行微波处...
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