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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种分子层沉积制备的可擦除有机无机杂化图案化薄膜
    一种分子层沉积制备的可擦除有机无机杂化图案化薄膜_华东理工大学_202510622286.5
    本发明公开了一种分子层沉积制备的可擦除有机无机杂化图案化薄膜，通过交替沉积无机前驱体与有机配体，在衬底表面形成高精度、均匀的杂化光刻胶薄膜，具体步骤包括：采用MLD技术，通过真空沉积、气源切换及循环吹扫工艺，精确控制薄膜成分与厚度；利用紫外...
    2025-07-25
  • 层积固化体、固化性树脂组合物、干膜以及层积固化体的制造方法
    层积固化体、固化性树脂组合物、干膜以及层积固化体的制造方法_太阳油墨(苏州)有限公司_201911407359.X
    本发明为层积固化体、固化性树脂组合物、干膜以及层积固化体的制造方法，提供一种兼具填埋性、绝缘可靠性和分辨率的固化物层、用于该固化物层的固化性树脂组合物、由该固化性树脂组合物形成的干膜以及该固化物层的制造方法。所述固化物层可以是例如层积固化体...
    2025-07-25
  • 一种光学临近校正方法及计算机可读存储介质
    一种光学临近校正方法及计算机可读存储介质_合肥晶合集成电路股份有限公司_202510480119.1
    本发明提供了一种光学临近校正方法及计算机可读存储介质，应用于半导体技术领域。在本发明中，在对原始版图中的所有主图形进行第一次光学临近校正，得到第一修正版图后，可从该第一修正版图中筛选出存在拼接缺陷的至少一主图形，并将该筛选出的主图形重新进行...
    2025-07-25
  • 官能化有机锡前体和相关方法
    官能化有机锡前体和相关方法_恩特格里斯公司_202380084864.3
    本发明提供了适用于形成含锡膜的前体。所述前体包含官能化锡化合物，其中一或多个配位体与Sn配位，且所述Sn被至少一个官能团官能化。进一步提供了形成所述前体的方法和使用所述前体来形成含锡膜的方法。
    2025-07-25
  • 一种高重复频率飞秒激光脉冲串双光子光刻3D打印系统
    一种高重复频率飞秒激光脉冲串双光子光刻3D打印系统_华南理工大学_202510493553.3
    本发明公开了一种高重复频率飞秒激光脉冲串双光子光刻3D打印系统。所述系统包括激光光源模块、激光传输系统、样品位移系统、监控系统和可编程终端。激光光源模块输出激光，经过激光传输系统将激光聚焦到光刻胶中。可编程终端分别与激光光源模块、激光传输系...
    2025-07-25
  • 掩模版和半导体器件
    掩模版和半导体器件_武汉光钜微电子有限公司_202421851500.1
    本实用新型提供一种掩模版和半导体器件。所述掩模版包括：功能区，所述功能区内设有功能图案；设于所述功能区一侧的监控区，所述监控区内设有监控图案以及虚设图案；所述监控区的开孔率和所述功能区的开孔率的比值处于预设范围内；其中，所述开孔率为图案面积...
    2025-07-25
  • 一种超薄油墨加工方法
    一种超薄油墨加工方法_芜湖东信光电科技有限公司_202510539340.X
    本发明公开了一种超薄油墨加工方法，包括如下步骤：1)卷材清洗；2)喷墨；3)预烘烤；4)曝光；5)显影；6)后烘烤或光固化；7)覆膜；8)切割，使用喷墨代替丝印，不仅效率高、而且油墨厚度更均匀、更薄，而黄光工艺制作的产品图形精度高，图案边缘...
    2025-07-25
  • 一种涂胶显影设备
    一种涂胶显影设备_芯达半导体设备(苏州)有限公司_202510651673.1
    本发明提供一种涂胶显影设备，涉及涂胶显影设备技术领域，包括SPIN单元、涂胶装置和显影装置，SPIN单元包括承载平台，用于承载晶圆并控制晶圆旋转，晶圆上具有光刻胶，使晶圆旋转后，光刻胶在晶圆的上方形成光刻胶层，其中涂胶装置位于SPIN单元的...
    2025-07-25
  • 用于形成半导体图案结构的方法及半导体器件的加工方法
    用于形成半导体图案结构的方法及半导体器件的加工方法_中国科学院微电子研究所_202110212715.3
    本公开提供了用于形成半导体图案结构的方法及半导体器件的加工方法，用于形成半导体图案结构的方法包括如下步骤。执行对准操作，以将具有第一预设图案的掩膜版与底部对准层对准，并获取对准参数。利用读取的偏移参数补正对准参数，以使掩膜版的对准位置发生偏...
    2025-07-25
  • 基于多目视觉的光刻机标定方法、装置及设备
    基于多目视觉的光刻机标定方法、装置及设备_深圳市四元数半导体有限公司_202510625522.9
    本申请涉及光刻机标定技术领域，公开了一种基于多目视觉的光刻机标定方法、装置及设备，该方法包括：通过四路光学分光系统对掩模平面和晶圆平面进行成像和相位敏感探测分析，得到四组掩模‑晶圆初始对准位置信息；进行扫描白光干涉边缘增强处理，得到三维表面...
    2025-07-25
  • 基于反馈前馈模拟的Overlay数据分析与预测系统
    基于反馈前馈模拟的Overlay数据分析与预测系统_上海芯无双仿真科技有限公司_202510519866.1
    本发明提供基于反馈前馈模拟的Overlay数据分析与预测系统，涉及半导体对准优化与智能控制领域，包括主体系统，主体系统中包含数据采集模块、数据处理与存储模块、分析模拟模块和预测与校正模块；数据采集模块设置于光刻设备关键位置的传感器，包含部署...
    2025-07-25
  • 一种改善显影缺陷的工艺方法
    一种改善显影缺陷的工艺方法_重庆芯联微电子有限公司_202510505861.3
    本发明提供一种改善显影缺陷的工艺方法，包括提供待显影处理的晶圆，晶圆表面形成有光刻胶层；对晶圆进行第一次预湿处理，在光刻胶层表面形成第一预湿液膜；对晶圆进行第二次预湿处理，在光刻胶层表面形成第二预湿液膜；对晶圆进行显影处理。本申请采用了两次...
    2025-07-25
  • 一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法
    一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法_苏州润邦半导体材料科技有限公司_202510607413.4
    本发明公开了一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法，包括非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、有机碱和溶剂，所述非离子表面活性剂为：
    2025-07-25
  • 抗蚀剂材料及图案形成方法
    抗蚀剂材料及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510054244.6
    本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有经碘原子取代的苯氧化物阴离子结构及和该苯氧化物...
    2025-07-25
  • 保护膜形成方法、保护膜形成装置以及基板处理系统
    保护膜形成方法、保护膜形成装置以及基板处理系统_东京毅力科创株式会社_202510028762.0
    本发明提供一种保护膜形成方法、保护膜形成装置以及基板处理系统，能够在表面具有多层图案化层的基板的周缘部适当地形成保护膜。保护膜形成方法包括：工序(A)，一边使基板旋转，一边从位于基板的表面侧的表面侧涂布部向基板的表面供给用于形成保护膜的涂布...
    2025-07-25
  • 用于将表膜安装在光掩模上的框架组合件
    用于将表膜安装在光掩模上的框架组合件_思而施技术株式会社_202411582602.2
    本发明公开了一种用于将表膜安装在光掩模上的框架组合件。所述框架组合件包含所述表膜附接到的框架、附接到所述光掩模的立柱以及插入到所述框架的下侧中的固定装置。所述立柱和所述固定装置彼此磁性地接合，且通过所述固定装置下方的所述立柱在所述光掩模与所...
    2025-07-25
  • 多肽芯片制备方法及用于多肽芯片曝光对准的监测方法
    多肽芯片制备方法及用于多肽芯片曝光对准的监测方法_珠海碳云晶芯智能科技有限公司_202410039840.2
    本发明公开了一种多肽芯片制备方法及用于多肽芯片曝光对准的监测方法。所述监测方法包括：提供用于制备多肽芯片的光刻胶，光刻胶中分散有光致变色物质，且光致变色物质为变色微粒；将光刻胶在用于制备多肽芯片的基片表面形成前体胶膜，并对前体胶膜进行图案化...
    2025-07-25
  • 一种感光性树脂组合物及其应用
    一种感光性树脂组合物及其应用_安徽拉瓦锡科技有限公司_202510523958.7
    本发明公开了一种感光性树脂组合物及其应用，包括如下质量份的原料组分：30～50份树脂、30～50份单体化合物、1～10份引发剂、0.1～5份交联剂、0.01‑1份界面活性剂；所述树脂包括脂肪族聚酯型聚氨酯丙烯酸酯和环氧丙烯酸树脂。本发明提供...
    2025-07-25
  • 一种用于室内设计的可变布景展示装置
    一种用于室内设计的可变布景展示装置_长春电子科技学院_202510325291.X
    本发明涉及室内布景展示设备技术领域，尤其涉及一种用于室内设计的可变布景展示装置，包括有支撑架和安装于支撑架上的电动升降架，支撑架与电动升降架上均滑动式插接有导向板，下方导向板内侧卡接有投影仪。本发明通过拉动伸缩活动杆使得幕布向右移动展开，启...
    2025-07-25
  • 溶剂类组合物、用于去除抗蚀剂的组合物、显影剂组合物以及形成图案的方法
    溶剂类组合物、用于去除抗蚀剂的组合物、显影剂组合物以及形成图案的方法_三星SDI株式会社_202411715247.1
    提供一种溶剂类组合物、一种用于去除来自含金属抗蚀剂的边缘珠的组合物和/或一种含金属抗蚀剂的显影剂组合物以及一种使用其形成图案的方法。所述组合物包括经至少一个羧基取代的多环脂族烃化合物；和有机溶剂。
    2025-07-25
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