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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 本公开提供了一种光学元件驱动机构。光学元件驱动机构包括一固定组件、一活动组件以及一驱动模组。活动组件是配置以连接于一光学元件,并且活动组件可相对于固定组件运动。驱动模组是配置以驱动活动组件相对于固定组件运动。
  • 本实用新型涉及打印机技术领域,且公开了一种打印机的电晕丝的清洁结构,包括底座组件,底座组件上表面中部紧固连接有收集组件,且底座组件上部粘接连接有清洁组件,清洁组件包括清洁块和毛面,毛面固定连接在清洁块一侧表面,且毛面粘接连接有勾面。该一种打...
  • 本实用新型涉及显影盒,包括开设于显影盒上用于连通粉仓与显影仓的进粉口和回粉口,粉仓用于容纳碳粉,显影仓设置有显影辊,粉仓内的碳粉能够通过进粉口进入显影仓,显影仓中的碳粉能够从回粉口回到粉仓;进粉口与回粉口处在同一水平线上,粉仓内还设有送粉组...
  • 本发明涉及图像形成装置、图像形成方法以及计算机程序产品,根据图像形成装置的使用状况来变更与片材的种类的判断相关的设定。图像形成装置(100)按照自动检测模式和种类指定模式中的任意一个模式进行图像形成,在该自动检测模式中,按照由片材种类判别单...
  • 本发明涉及充电辊技术领域,具体为一种具有稳定导电堵头结构的空心充电辊,包括:空心辊轴、导电套管和螺纹堵头;所述空心辊轴的外侧固定连接有导电套管,且空心辊轴的两端均螺纹连接有螺纹堵头,所述螺纹堵头内设置有紧固机构;所述紧固机构包括有螺纹堵头一...
  • 本发明公开了一种投影系统,投影系统包括:第一振镜、第二振镜和柱面反射镜。第一振镜围绕第一轴线可转动,第一轴线穿过第一振镜,第一振镜和第二振镜间隔设置,第一振镜具有第一点,第二振镜具有第二点,第一点和第二点均位于第一轴线上;柱面反射镜所在圆柱...
  • 本实用新型涉及一种电子图案片及图案投影装置,属于摄影摄像设备技术领域,本申请的电子图案片包括电控调光区、布线区和通电接口,所述电控调光区至少包括第一透光分区和第二透光分区,所述第一透光分区和所述第二透光分区在驱动信号驱使下具有不同的透光率,...
  • 本发明提出了一种基于光子筛的极紫外光刻掩模缺陷检测方法与系统。设计专用光子筛,使用所述的光子筛替代现有极紫外光刻掩模缺陷检测系统中使用的菲涅尔波带片,构建极紫外光刻掩模缺陷检测方法与系统。所述系统采用来自同步辐射的静态窄发散极紫外光源。所述...
  • 本公开提供一种光学元件驱动机构。光学元件驱动机构包括固定部、第一活动部及驱动组件。第一活动部用以连接第一光学元件,并且可相对固定部运动。第一驱动组件用以驱动第一活动部相对固定部运动。
  • 本发明属于手摇发电机技术领域,具体的说是一种手摇发电机,包括盒体,所述盒体的上方设置有盒盖,所述盒体的内部设置有发电机,所述盒盖的下方设置有过渡板,所述过渡板的下方设置有增速齿轮箱,所述增速齿轮箱与过渡板之间转动连接有飞轮,所述飞轮的上方固...
  • 本实用新型公开了一种投影机LED光源的水冷头固定装置,包括底座、LED光源、水冷头、板簧压片和连接组件;底座上设有避让面,并由避让面向内凹设有安装面;底座在安装面上设有穿透底座的透光窗口;安装面上设有定位柱;LED光源包括金属基板和LED发...
  • 本实用新型公开一种波长转换轮,包括:基板,所述基板包括第一表面以及对设置的第二表面;波长转换区,所述波长转换区位于所述基板第一表面,所述波长转换区包括波长转换层;金属散热层,所述金属散热层至少设于所述基板其中一表面,所述金属散热层内随机设有...
  • 本发明提供一种相移掩模及显示装置的制造方法,其有利地适合于显示装置制造用掩模的曝光环境,且微细的孔图案的转印分辨率优异。该相移掩模(10)在透光性基板(1)上具备透光部(11)、相移部(12)及遮光部(13),透光部(11)是使透光性基板(...
  • 本申请属于摄影设备技术领域,具体涉及柔光箱及摄影灯光系统,柔光箱的框架主体包括支撑杆、第一框架和第二框架,支撑杆的第一端与第一框架和第二框架中的其中一者连接,支撑杆的第二端与另一者以可拆接的方式连接,以固定第一框架和第二框架之间的间距,或使...
  • 本申请公开了一种基于底层三维结构可见的OPC模型的光刻图形预测方法,方法包括:获取具有目标光刻胶的目标晶圆的不包含底层效应的第一wafer数据、光刻工艺参数、光罩数据、底层三维数据和底层材料光学性质参数;基于光学成像算法结合光刻工艺参数和光...
  • 本发明公开了一种双面套刻精度对准及保护背孔被过刻蚀风险控制方法,本发明涉及光刻套刻技术领域。包括以下步骤:首先,在晶圆正面形成第一层套刻图案和对准标记,建立正面坐标系;通过套刻两层正面套刻图案的坐标信息计算局部及全局偏移误差,确定综合正面套...
  • 本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及表面活性剂。本发明提供能形成成膜性、填埋特性及隆起抑制性优异而且作为多层抗蚀剂用的有机膜时的处理裕度优异的有机膜的有机膜形成用组成物。一种有机膜形成用组成物,包含(A)有机膜形成...
  • 本发明公开了一种浸没式光阻制备方法包括:步骤一、利用第一化合物和光致酸剂的分子自组装形成第二化合物。第一化合物具有带有羟基的柱芳烃超分子骨架。第二化合物为在柱芳烃超分子骨架的空腔中组装了各光致酸剂的分子的功能超分子。步骤二、将甲基丙烯酸衍生...
  • 本发明公开了Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用。本发明具体公开了一种抗蚀剂组合物在Krf薄膜光刻中的应用,所述抗蚀剂组合物由下述原料制得,所述的原料包括下列以重量份计的组分:80~150份的树脂A、5~20份的树脂B、5...
  • 本发明提供了一种使用具有特定结构的聚硅氧烷组合物以提升金属氧化物抗蚀剂的曝光灵敏度的方法。
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