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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 定影装置和成像设备
    定影装置和成像设备_佳能株式会社_202411604894.5
    本申请涉及定影装置和成像设备。定影装置包括配置为加热片材的加热单元和面对加热单元并与加热单元一起形成定影夹持部的面对辊。面对辊包括辊部，辊部包括弹性层。当将在宽度方向上预定位置相对于辊部中央部所处的一侧定义为第一侧并且将与第一侧相反的一侧定...
    2025-05-16
  • 电子照相感光构件、处理盒及电子照相设备
    电子照相感光构件、处理盒及电子照相设备_佳能株式会社_202411618143.9
    本发明涉及电子照相感光构件、处理盒及电子照相设备。提供电子照相感光构件，其包括：支承体；和感光层。感光层包含粘结剂树脂、电荷产生物质、电子输送物质和空穴输送物质。粘结剂树脂包含具有特定结构单元的多芳基化合物树脂。空穴输送物质包含特定化合物。
    2025-05-16
  • 电子照相感光构件、处理盒及电子照相设备
    电子照相感光构件、处理盒及电子照相设备_佳能株式会社_202411618146.2
    本发明涉及电子照相感光构件、处理盒及电子照相设备。提供电子照相感光构件，其包括：支承体；和感光层。感光层包含粘结剂树脂、电荷产生物质、电子输送物质和空穴输送物质。粘结剂树脂包含具有特定结构单元的多芳基化合物树脂。空穴输送物质包含特定化合物。
    2025-05-16
  • 一种驱动力的接收和传输装置及处理盒
    一种驱动力的接收和传输装置及处理盒_珠海盛泰数码科技有限公司_201810181314.4
    本发明涉及一种驱动力的接收和传输装置及处理盒，该驱动力的接收和传输装置包括安装在感应鼓上的齿轮套和一端设有驱动头的驱动轴，所述驱动轴可沿轴向运动且在轴向运动的同时可在一定范围内旋转地安装在齿轮套上；当粉盒装机使用时，机器的驱动杆与驱动轴的驱...
    2025-05-16
  • 一种处理盒
    一种处理盒_江西亿铂电子科技有限公司_202421656569.9
    本实用新型公开了一种处理盒，包括：鼓框架；显影框架；感光鼓；显影辊；耦合件；肋部，在所述处理盒安装至所述成像设备的过程中，所述肋部可迫使所述成像设备的保护构件移动，以允许所述耦合件与所述驱动力施加构件耦合；所述容纳腔包括向下凹进而形成的凹部...
    2025-05-16
  • 一种可循环更换粉盒的组合式硒鼓
    一种可循环更换粉盒的组合式硒鼓_珠海市达威打印耗材有限公司_202510296061.5
    本发明公开了一种可循环更换粉盒的组合式硒鼓，包括一体式硒鼓，所述一体式硒鼓内固定有不可拆卸的墨粉盒，所述墨粉盒的外侧设有安装腔，所述安装腔内安装有可拆卸的墨粉仓，所述墨粉仓位于安装腔内往复摇晃，使墨粉仓内的墨粉运动至墨粉盒内；所述墨粉盒内设...
    2025-05-16
  • 电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置
    电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置_富士胶片商业创新有限公司_202010503613.2
    本发明涉及电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置。该电子照相感光体具有导电性基体以及设于上述导电性基体上的感光层，最外表面层包含含氟树脂颗粒、氟系接枝聚合物以及25℃的水中的酸解离常数(pKa)为3以下的酸性化合物，上述酸性化合物的含量相对...
    2025-05-16
  • 成像单元及碳粉盒
    成像单元及碳粉盒_珠海天威飞马打印耗材有限公司_202510250515.5
    本发明提供一种成像单元及碳粉盒，成像单元包括废粉仓、感光鼓和清洁刮刀，感光鼓绕自身的轴心转动安装在废粉仓上，清洁刮刀安装在废粉仓上，清洁刮刀包括刮片，刮片与感光鼓的表面接触，其中，刮片具有显影区段和两个非显影区段，显影区段位于两个非显影区段...
    2025-05-16
  • 用于摄像装置的偏振控制方法、设备、装置及可读介质
    用于摄像装置的偏振控制方法、设备、装置及可读介质_中光学(杭州)智能光电科技有限公司_202510160971.0
    本申请公开了一种用于摄像装置的偏振控制方法、设备、装置及可读介质，摄像装置包括镜头、偏振镜和电光调制器，电光调制器中包括级联的至少三个挤压器，获取电光调制器的输出电压目标值；获取当光线依次通过镜头和偏振镜后输入至电光调制器时的、电光调制器的...
    2025-05-16
  • 一种基于飞秒激光双光子聚合的PDMS光刻胶的制备方法及应用
    一种基于飞秒激光双光子聚合的PDMS光刻胶的制备方法及应用_河南师范大学_202510493798.6
    本发明公开了一种基于飞秒激光双光子聚合的PDMS光刻胶的制备方法及应用，并通过微纳结构加工验证光刻胶配方的可行性。光刻胶的制备通过将异丙基‑9H‑噻吨‑9‑酮和2‑异丙基硫杂蒽酮溶解于四氢呋喃中，形成光引发剂溶液。随后将PDMS前聚体与光引...
    2025-05-16
  • 单片LCD投影机
    单片LCD投影机_广州视源电子科技股份有限公司_202420818825.3
    本申请公开一种单片LCD投影机，包括照明系统和投影成像系统；照明系统包括LED灯板，沿LED灯板出射光线的传播方向依次设置的反光杯、第一菲涅尔透镜以及隔热玻璃；LED灯板的有效发光面的长度不小于9mm不大于11.5mm，宽度不小于6mm不大...
    2025-05-16
  • 固化涂膜的形成方法
    固化涂膜的形成方法_株式会社田村制作所_201910196287.2
    本发明的目的是提供一种固化涂膜的形成方法，该方法即使在基板设置有通孔，也能够防止感光性树脂组合物经由通孔向基板背侧的泄漏，并且能够使涂膜的厚度均匀化。该固化涂膜的形成方法具有：采用喷墨法将25℃时的粘度为150～1500mPa·s的第一感光...
    2025-05-16
  • OPC修正方法、半导体设备及半导体产品
    OPC修正方法、半导体设备及半导体产品_粤芯半导体技术股份有限公司_202510244341.1
    本申请提供了一种OPC修正方法、半导体设备及半导体产品，涉及半导体制造技术领域，解决了相关技术中通孔圆整程度低而在显影刻蚀后容易出现短路的问题，本申请方案通过对通孔版图设计的修正，从而调整对应通孔的目标图形，提升了成像对比度，从而提升成像质...
    2025-05-16
  • 一种掩模版通孔层方孔亮度优化的方法
    一种掩模版通孔层方孔亮度优化的方法_常州维普半导体设备有限公司_202510346628.5
    本发明公开了一种掩模版通孔层方孔亮度优化的方法，方法的步骤中含有：S01：定位并标定Mask图和掩模设计文件生成图上的每个方孔覆盖范围；S02：分别对Mask图上的方孔覆盖范围区域中的每个像素点的原始灰度值进行直方图计算，并定义明暗分界值，...
    2025-05-16
  • 计算全息显示系统及方法
    计算全息显示系统及方法_清华大学_202510335766.3
    本发明提供一种计算全息显示系统及方法，其中的系统包括：控制元件，用于获取第一分辨率的目标场景图像，基于目标场景图像计算全息面复振幅信息并进行编码，得到全息图序列；空间光调制器，用于加载全息图序列，并根据全息图序列调制入射光束，得到衍射图像序...
    2025-05-16
  • 光刻机用晶圆对准装置及光刻机
    光刻机用晶圆对准装置及光刻机_新毅东(北京)科技有限公司_202510496537.X
    本发明涉及半导体生产工艺领域，提供光刻机用晶圆对准装置及光刻机。光刻机用晶圆对准装置包括晶圆载台，用于承载晶圆；夹持组件包括传动连接的夹持驱动件和一对夹持盘，夹持驱动件用于驱动一对夹持盘沿第一方向运动并使夹持盘在夹持位位置和分离位位置之间切...
    2025-05-16
  • 一种用于照相机防水壳体的取景器
    一种用于照相机防水壳体的取景器_东莞力途精密科技有限公司_202421644683.X
    本申请涉及水下摄影取景器技术领域，具体涉及一种用于照相机防水壳体的取景器，包括壳体、物镜组件、棱镜组件和目镜组件，壳体上设置有光线入口和光线出口；棱镜组件位于壳体内，棱镜组件包括第一棱镜和第二棱镜，第一棱镜和第二棱镜分别设置有第一反射面和第...
    2025-05-16
  • 一种硅模具及其制备方法和作为纳米压印的模具的应用
    一种硅模具及其制备方法和作为纳米压印的模具的应用_华天慧创科技(西安)有限公司_202510173995.X
    本发明属于微纳加工技术领域，具体涉及一种硅模具及其制备方法和作为纳米压印的模具的应用。本发明提供的硅模板的制备方法，首先在硅基板表面涂覆光刻胶，并利用光刻的曝光和显影将所需的微纳结构图案转移到光刻胶层上；然后利用等离子体刻蚀方法，将未被光刻...
    2025-05-16
  • 螺吡喃化合物在制备高曝光容差性能的光致抗蚀剂中的应用
    螺吡喃化合物在制备高曝光容差性能的光致抗蚀剂中的应用_武汉市太紫微光电科技有限公司_202510207525.0
    本申请属于微电子器件加工技术领域，更具体地，涉及螺吡喃化合物在制备高曝光容差性能的光致抗蚀剂中的应用。本申请通过将特定结构的螺吡喃化合物引入到光致抗蚀剂中，能够有效提升光致抗蚀剂的曝光宽容度，使得曝光后形成的图形的尺寸变化保持在较小范围内，...
    2025-05-16
  • 基片处理方法和基片处理装置
    基片处理方法和基片处理装置_东京毅力科创株式会社_202380072042.3
    本发明提供一种基片处理方法，包括：使用极性显影材料和非极性显影材料，对形成了负型的含金属抗蚀剂的覆膜、并进行了曝光处理及所述曝光处理后的加热处理的基片进行显影的工序。
    2025-05-16
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