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一种CVD晶圆镀膜设备
本发明涉及CVD晶圆镀膜技术领域,公开了一种CVD晶圆镀膜设备,包括安装单元、传动单元和锁止单元,安装单元包括工作箱,工作箱底部四周固定安装有支撑腿,四个支撑腿两两之间相互对称,工作箱相对的两侧壁均设置有拉门,工作箱内腔设置有第一滑动机构,...
一种用于真空镀膜机的工件固定结构
本实用新型公开了一种用于真空镀膜机的工件固定结构,包括放置盘,其两侧对称开设有插接槽,插接槽内滑动设置有插接板,插接板上对称滑动设置有倒角卡块,插接板上滑动设置有解锁板,解锁板位于插接槽内的一端设置有抵推倒角卡块在卡槽内滑动的球形抵推件,以...
一种钢结构件热镀锌用热镀锌炉锅
本实用新型公开了一种钢结构件热镀锌用热镀锌炉锅,包括炉锅本体,所述炉锅本体的一侧固定连接有驱动箱,所述驱动箱的中部转动连接有驱动齿轮,所述驱动齿轮的中部固定连接有传动轴,所述驱动齿轮的外侧壁两侧均啮合有从动齿条。本实用新型通过炉锅本体对锌水...
一种电火花涂敷装置
本发明属于电火花加工技术领域,具体公开了一种电火花涂敷装置,包括固定座和电火花涂敷枪,固定座顶部转动连接有圆盘,圆盘上设有用于夹持工件的夹持机构,固定座底部固定连接有伺服电机,伺服电机输出端穿过固定座内部与圆盘底部固定连接,固定座顶部两侧均...
热丝系统以及卧式HWCVD设备
本发明公开了热丝系统以及卧式HWCVD设备。该热丝系统被使用在卧式HWCVD设备中,其中,所述卧式HWCVD设备具有镀膜腔,所述镀膜腔内容置有用于载置衬底的载板,所述载板水平地被支撑并沿第一方向运行,所述热丝系统配置在所述镀膜腔的竖直方向的...
一种高真空五维位移平台
本实用新型涉及真空位移台技术领域,具体公开了一种高真空五维位移平台,包括:底座,底座的上端通过调节柱连接有导轨下支撑板,导轨上支撑板的内部设置有丝杆本体,Z轴移动板的上端通过Y轴交叉导轨连接有Y轴移动板,Y轴移动板的上端通过X轴交叉导轨连接...
一种钢管顶头渗硼强化装置
本实用新型提供一种钢管顶头渗硼强化装置,属于金属制品加工技术领域,该钢管顶头渗硼强化装置,包括桶形渗箱;放置槽,放置槽开设于桶形渗箱的上端,放置槽内连接有渗箱内盖;第一螺母,第一螺母固定连接于渗箱内盖上,第一螺母上连接有第一螺栓;石棉板,石...
一种CoCrNi-TiC梯度熔覆层及其制备方法
本发明涉及一种CoCrNi‑TiC梯度熔覆层及其制备方法,属于涂层技术领域。本发明的制备方法包括以下步骤:S1、分别将不同含量的TiC颗粒和CoCrNi合金粉末进行混合,得到不同TiC含量的CoCrNi基熔覆粉末;S2、通过激光熔覆技术,在...
一种同轴送粉的激光熔覆头用集成装置
本发明涉及一种同轴送粉的激光熔覆头用集成装置,属于激光熔覆技术领域。包括连接座,以及连接在连接座底部的喷嘴结构,连接座上设有送粉管道、水冷管道和风冷管道,喷嘴结构包括内嘴和外嘴,内嘴和外嘴均为漏斗结构,且内嘴适配设于外嘴的内部。本发明通过将...
一种玻璃表面电膜退镀设备及玻璃表面电膜退镀方法
一种玻璃表面电膜退镀设备,包括机架,机架上设置有物料传输装置、等离子处理装置,在物料传输装置上设置了空隔,等离子处理装置的喷头正对空隔,等离子处理装置位于空隔上方并从上往下喷出等离子体。与现有技术对比,本发明的优点在于:1、不设置压辊等部件...
一种PDC钻头表面硬化方法
本发明提供了一种PDC钻头表面硬化方法,属于钻井钻头处理技术领域,所述方法包括以下步骤:对PDC钻头表面进行除油除锈、打磨处理,清洗、干燥,得到预处理后的PDC钻头;将粘合层混合料熔覆在预处理后的PDC钻头表面,形成粘合层;将硬化层混合料熔...
一种化学气相沉积设备
本发明公开了一种化学气相沉积设备,化学气相沉积设备的真空腔体内设有晶圆托盘、进气装置、加热器、上衬垫和限流环,晶圆托盘、上衬垫和限流环构成化学气相沉积设备的反应区域;上衬垫的下表面设有环形的凸出部,凸出部具有内侧面、底面、和外侧面,限流环的...
一种热喷涂的保护加热装置
本实用新型公开了一种热喷涂的保护加热装置,涉及热喷涂保护加热技术领域,包括加热箱和顶面设有的燃料加装口以及表面一侧设有的燃料排放口。本实用新型使加热箱内部加注热喷燃料,利用承载空腔内部搭载的加热液,使得循环加热泵首先通过吸入管进行抽取加热,...
一种模具材料复合层制备方法
本发明公开了一种模具材料复合层制备方法,属于模具制备技术领域,其技术要点是:包括相反应箱、进气口、第一安装圆盘、夹件机构、第二安装圆盘及改向机构,还包括以下步骤:步骤一:打开气相反应箱,向气相反应箱内放置需要进行气相反应的模具,模具放置在第...
一种等离子熔覆粉末送粉器流动性调节机构
本实用新型提供了一种等离子熔覆粉末送粉器流动性调节机构,属于等离子熔覆技术领域。该等离子熔覆粉末送粉器流动性调节机构,包括送粉筒,送粉筒外壁法兰连接有粉末加热桶,送粉筒顶端设有盖板,并焊接有锁固机构,盖板通过锁固机构与送粉筒顶端固定连接,送...
一种旋转驱动装置及化学气相沉积设备
本发明提供一种旋转驱动装置及化学气相沉积设备,其中所述旋转驱动装置包括支撑筒,顶部用于支撑基片托盘,底部设置在旋转法兰上;所述支撑筒侧壁包括上侧壁和下侧壁以及设置在上侧壁和下侧壁之间的台阶面,下侧壁的直径大于上侧壁的直径;弹性件,其设置在台...
一种高真空多源热蒸发镀膜设备
本发明公开了一种高真空多源热蒸发镀膜设备,涉及真空蒸发镀膜技术领域,包括镀膜筒,所述镀膜筒的右侧设置有真空泵,所述镀膜筒的上侧固定连接有多个电加热器,所述镀膜筒的下方设置有滚动输送机,所述滚动输送机的上侧设置有玻璃衬底,所述镀膜筒的左侧设置...
一种CoCrNi-TiC复合涂层及其制备方法
本发明涉及一种CoCrNi‑TiC复合涂层及其制备方法,属于涂层技术领域。本发明的制备方法,包括以下步骤:S1、将CoCrNi合金粉末和TiC颗粒进行混合,得到复合粉末;S2、通过激光熔覆技术,在金属衬底上将CoCrNi合金粉末、复合粉末交...
一种真空高速率沉积旋转圆柱电弧镀膜源系统
本发明提供一种真空高速率沉积旋转圆柱电弧镀膜源系统,包括旋转圆柱靶装置,引弧装置,可活动遮罩装置,主体与电控装置和匀气装置;旋转圆柱靶装置包括处于中间的磁轴和靶材;磁轴包括固定轴、固定压紧块、调节螺母座、固定螺杆、导磁板、磁棒、连接轴套、支...
一种应用在半导体化学镀镍钯金镀层的化学镀溶液加工工艺
本发明属于半导体加工技术领域,尤其公开了一种应用在半导体化学镀镍钯金镀层的化学镀溶液加工工艺,包括两个并列设置的底板,两个底板之间设置有溶液框,化学镀溶液处于溶液框的两个放置槽内部,所述底板顶部利用支杆固定有支板,且支板顶部固定有顶块,所述...
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