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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明提供了一种用于导尿管内外壁功能性沉积处理的等离子体装置和方法。第一高压电极的一端和左端的绝缘装置圆心位置连接并固定,第一圆环形凹槽用于固定导尿管,通过第二圆环形凹槽和第三圆环形凹槽将石英玻璃管固定,右端绝缘装置的中心位置开有和导尿管直...
  • 本发明提供一种化学气相沉积碳化硅的沉积方法及系统,包括步骤:S1.提供石墨基材,将基材放入反应模块中,启动旋转装置,并通入硅烷气体,控制反应温度为1100‑1200℃,持续反应5‑10min,在基材表面形成碳化硅晶粒;S2.将反应模块的温度...
  • 本发明提供了一种等离子喷涂耐高温冲蚀涂层以及涂层制备方法,涉及材料表面处理技术领域,包括如下质量比成分:碳化钨30‑45份、碳化铬‑镍铬合金15‑25份、氧化钇稳定氧化锆15‑25份、氧化铝‑二氧化钛复合陶瓷5‑10份、镍铬铝钇合金10‑2...
  • 本实用新型公开了一种用于钢制品涂装生产线前处理工序的系统,该系统包括:多个功能区,功能区包括脱脂区、水洗区和陶化区;与每个功能区对应设置的过渡区和存水装置,其中过渡区位于相邻功能区之间,存水装置分别与其对应的过渡区和功能区连通。本实用新型通...
  • 本实用新型属于真空镀膜装置技术领域,具体涉及基于公转辐照式的均匀受热真空镀膜装置,包括机柜本体和安装在柜本体表面的密封柜门,所述密封柜门的表面安装有观察窗,所述机柜本体的内部底端安装有电阻加热器,所述机柜本体的内部安装有反射盘,所述机柜本体...
  • 本申请公开了热镀锌钢板处理气刀工装,包括板体,所述板体上开设有第一出气口、第二出气口、第一进气口以及第二进气口,所述第一出气口与第一进气口通过第一通道连通,所述第二出气口与第二进气口通过第二通道连通,所述第一出气口以及第二出气口上均安装有气...
  • 本发明属于工件真空处理技术领域,公开了一种真空处理腔室及多腔室真空处理装置。真空处理腔室的顶部和/或底部转动设置有第一配合件,真空处理腔室包括工件装载机构,其沿第一方向可移动设置于真空处理腔室,包括容置框和工件架,多个工件装载于工件架,工件...
  • 本发明涉及光伏焊带技术领域,公开铜包铝反光带生产线,包括固设在基础上的铜铝包覆装置、热浸镀锡装置,铜铝包覆装置的上游侧设有铝杆预成型装置;铝杆预成型装置包括一对上下设置的预成型压轮;热浸镀锡装置包括镀锡槽箱、设置在镀锡槽箱内的导轮A和导轮B...
  • 本发明提出一种真空蒸镀机的光控集成系统,包括第一旋转机构,采用三级旋转协同控制架构,通过第一旋转机构驱动载具公转、第二旋转件独立控制晶振片机构自转、第三旋转机构调控光控结构,实现了多自由度运动解耦,有效避免机械干涉;配置多晶振片轮换检测机制...
  • 本发明提供一种连续镀膜电子磁控溅射装置,属于连续磁控溅射镀膜技术领域,包括真空室、缓冲隔离室、预真空室,真空室与多个缓冲隔离室及多个预真空室相互连通并一字排开,真空室居中设置其两端与缓冲隔离室连通,缓冲隔离室一端与预真空室连通,还包括:第一...
  • 本发明提出一种新型的真空蒸镀机,包括抽真空系统、载具旋转系统、光控集成系统、晶振系统、加热系统、水冷系统和蒸镀系统,通过将光控集成系统和晶振系统内置于第一旋转机构的中空腔体,实现了旋转镀膜与实时检测的协同工作,缩短检测光路提升信噪比;旋转轴...
  • 本发明涉及金属材料技术领域,提供了一种用于抑制爬壁钛生成的防护涂层技术,所述涂层施用在钛生产反应器的内表面上,用于抑制爬壁钛的生成,包括以下步骤:反应器内表面预处理;施加涂层,所述涂层原料包括Y2O3
  • 本发明涉及磁控镀膜技术领域,具体为一种工件表面清洗器及其物理气相沉积设备,包括清洗器外壳和沉积设备外壳,还包括位于清洗器外壳和沉积设备外壳接触面的中部隔离圈、转动连接在中部隔离圈内腔的转板、固定连接在中部隔离圈左侧的电机、连通在转板顶部及底...
  • 本发明涉及铜线生产技术领域,提供了一种超细铜线的热镀锡设备及其工艺,包括镀锡箱,所述镀锡箱的一侧设有与外界连通的冷却槽,所述冷却槽的底部和顶部均设有与镀锡箱连通的孔,以供铜线的穿出和穿入,所述镀锡箱内部的顶部设有加热管,所述镀锡箱内部设有导...
  • 本发明公开了一种存储瓶系统及其控制方法,该系统包括:存储瓶以及控制单元,控制单元与存储瓶连接;存储瓶包括高度可调结构,高度可调结构用于调整存储瓶的高度。通过实施本发明的系统可实现可调节液体钢瓶高度、在线自动调整工艺参数及延长钢瓶更换和PM周...
  • 本发明公开了一种镀覆在丝杠滚道上的超厚非晶碳镀层及其制备方法。所述的超厚非晶碳镀层为迭层镀层,包含了依次镀覆在丝杠上的铬底层、碳铬二元过渡层和起主要作用的非晶碳上盖层,其制法为:对含有滚道槽的丝杠进行氩等离子体刻蚀;再采用多弧蒸发沉积铬底层...
  • 本发明公开了一种防止微型电容器基膜烫伤的电子枪装置,包括发射腔,所述发射腔一侧安装有分子泵和发射组件,另一侧开有发射口,所述发射组件的外侧罩有保护罩,所述保护罩固定连接接口法兰,所述发射口外侧连通发射通道,所述发射通道一端固定连接发射腔,所...
  • 本申请公开了一种蒸镀装置和蒸镀方法,其中,所述蒸镀装置包括蒸镀腔,所述蒸镀腔的一侧设置有出入口,所述出入口用于供玻璃基板和掩膜板进入所述蒸镀腔内;所述蒸镀腔内设置有蒸镀源,所述蒸镀源位于所述蒸镀腔内与所述出入口相邻或相对的侧面;其中,所述蒸...
  • 一种用于磁控溅射系统的选择性基底偏压调控装置及多层膜制备方法,该装置包括滑轨(1)、导电滑轨(2)和导电杆(3)。滑轨(1)固定在磁控溅射系统真空腔顶部,导电滑轨(2)可拆卸地安装在滑轨(1)上;导电滑轨(2)安装起点与膜层生长起点的距离≥...
  • 本发明涉及一种用于预处理基材的至少一个金属表面的方法,该方法至少包括步骤1)和2),即,使该基材的该至少一个表面至少部分地与酸性水性组合物AAC接触以至少部分地在所述表面上形成膜,该酸性水性组合物至少含有在10至2000mg/L范围内的量的...
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