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五金工具产品及配附件制造技术
  • 调节装置和PECVD设备
    调节装置和PECVD设备_三一硅能(株洲)有限公司_202422030786.3
    本实用新型涉及光伏技术领域，提供一种调节装置。调节装置包括下极板加热组件、多个调节组件和多个传输组件，下极板加热组件内部具有腔体，腔体用于容纳载板；多个传输组件间隔设于腔体的侧壁，传输组件用于输送载板；多个调节组件间隔设于腔体的侧壁，且与传...
    2025-05-31
  • 一种在轧钢辊环上涂敷纳米复合涂层的方法
    一种在轧钢辊环上涂敷纳米复合涂层的方法_张家口中诚隆信科技有限公司_202411647220.3
    本发明属于轧钢辊环技术领域，具体涉及一种在轧钢辊环上涂敷纳米复合涂层的方法，包括以下步骤：S1、预处理；S2、真空加热处理；S3、一次刻蚀处理：对基体进行离子源轰击刻蚀处理30‑120min；S4、一次镀膜处理；S5、二次刻蚀处理；S6、二...
    2025-05-31
  • 衬底预加热模块、具有其的器件处理组件及方法
    衬底预加热模块、具有其的器件处理组件及方法_ASMIP私人控股有限公司_202411711089.2
    提出了一种衬底预加热模块。根据本公开的实施例，该模块包括：室，其配置成从设备前端模块(EFEM)接收一个以上衬底；第一开口，其设置在邻近EFEM的室的壁上；气体入口，其配置为将第一气体从外气体源输送到室中；第一阀，其设置在气体入口处，并配置...
    2025-05-31
  • 一种适用于汽车遮阳板镜片的磁控溅射镀膜装置
    一种适用于汽车遮阳板镜片的磁控溅射镀膜装置_苏州鑫河镜业有限公司_202422012450.4
    本实用新型涉及遮阳板镜片镀膜领域，公开了一种适用于汽车遮阳板镜片的磁控溅射镀膜装置，包括真空罐，所述真空罐顶部设置有高压阳极棒，所述真空罐底端内壁设置有磁控离子激发器，所述磁控离子激发器外周滑动连接有固定底座，所述固定底座内部开设有滑动槽，...
    2025-05-31
  • 一种复合镀层及其制备方法
    一种复合镀层及其制备方法_九牧厨卫股份有限公司_202310098433.4
    本申请公开了一种复合镀层及其制备方法，所述复合镀层沉积在基材上，依次为基材、镱锆银合金层和碳氮锆银合金层。为了克服工艺控制难度大、与基材结合力较差、镀层颜色不可控、表面粗糙、抗病毒效果差等缺点，本文提出一种利用复合靶材，通过多弧离子镀的方式...
    2025-05-31
  • 二次电池电极制造设备辊用纳米复合涂覆材料及其制备系统
    二次电池电极制造设备辊用纳米复合涂覆材料及其制备系统_因诺昇科技株式会社_202411255904.9
    本发明提供一种二次电池电极制造设备辊用纳米复合涂覆材料及其制备系统。本发明的目的在于，提供一种应用于母材，并具有耐热性、耐粘附性、耐久性、耐化学性、耐摩擦性、脱模性的新型涂覆材料，以及该涂覆材料的制备方法以及制备系统。本发明提供一种应用于母...
    2025-05-31
  • 一种引发式分子层沉积方法及区域选择性沉积调控方法
    一种引发式分子层沉积方法及区域选择性沉积调控方法_浙江大学_202510206622.8
    本申请公开了一种引发式分子层沉积方法及区域选择性沉积调控方法。该引发式分子层沉积方法包括如下步骤：表面激活：将基板置于反应腔体中，利用等离子体在基板表面形成反应位点；沉积：向反应腔体中通入单体，单体与反应位点作用并在基板表面沉积形成膜层；其...
    2025-05-31
  • 沉积设备
    沉积设备_拉普拉斯新能源科技股份有限公司_202422064086.6
    本申请涉及光伏和半导体技术领域，尤其涉及一种沉积设备，解决了沉积设备无法对腔体的内壁进行镀膜的问题。该沉积设备被配置为对腔体的内壁进行镀膜，内壁围合形成腔室，腔体具有连通腔室与外界的至少一个开口。该沉积设备包括至少一个密封件、至少一个靶台和...
    2025-05-31
  • 一种半导体溅镀系统
    一种半导体溅镀系统_绍兴芯链半导体科技有限公司_202510270283.X
    本发明提供了一种半导体溅镀方法及系统，在原设计的上料/下料平台中间增设可上下升降结构(快门)以及另一组溅镀载体，实现两组相互穿梭。这一设计允许设备同时进行上料、下料以及溅镀操作。当第一组固定座在溅镀腔体中进行溅镀时，第二组固定座能在该时间内...
    2025-05-31
  • 避免沉积工具的真空管线中的再循环区域
    避免沉积工具的真空管线中的再循环区域_朗姆研究公司_202380075214.2
    一示例提供一种沉积工具。该沉积工具包含处理室和真空系统。该真空系统包含真空管线，其配置成运载来自该处理室的排气流。该真空系统还包含阀，其定位在该真空管线内。该真空系统还包含清扫气体入口，其沿着该真空管线而设置。
    2025-05-31
  • 一种自适应减摩WS2-DLC/DLC多层涂层及其制备方法和应用
    一种自适应减摩WS<Sub>2</Sub>-DLC/DLC多层涂层及其制备方法和应用_华中科技大学_202510263641.4
    本发明涉及材料表面改性技术领域，具体涉及一种自适应减摩WS2‑DLC/DLC多层涂层及其制备方法和应用，包括以下步骤：在基底表面沉积中间层Cr层，在中间层Cr层上沉积WS2‑DLC复合层，在WS<...
    2025-05-31
  • 基板支架、基板处理装置及成膜装置
    基板支架、基板处理装置及成膜装置_佳能特机株式会社_202211706317.8
    本发明提供一种能够抑制基板的破损发生地保持基板的基板支架。基板支架(30)使基板(2)的被处理区域(21a)露出地保持基板(2)，其特征在于，具备：夹持部(310、320)，所述夹持部(310、320)与基板(2)的角部(24)不接触地夹持...
    2025-05-31
  • 一种半导体碳化硅涂层装置、系统、方法及可读存储介质
    一种半导体碳化硅涂层装置、系统、方法及可读存储介质_山西中电科电子装备有限公司_202510420132.8
    本发明一种半导体碳化硅涂层装置、系统、方法及可读存储介质，属于半导体涂层领域；解决了现有碳化硅涂层装备操作复杂且分解后生成的多种副产物严重影响碳化硅涂层质量的问题；为解决该技术问题采用的技术方案是：包括涂覆腔和控制系统，涂覆腔内的MTS分解...
    2025-05-31
  • 用于控制薄膜沉积分布的装置及化学气相沉积设备
    用于控制薄膜沉积分布的装置及化学气相沉积设备_芯恩(青岛)集成电路有限公司_202422079849.4
    本实用新型提供了一种用于控制薄膜沉积分布的装置及化学气相沉积设备，装置设于化学气相沉积设备上，化学气相沉积设备包括上腔壳及具有通孔的喷淋板，上腔壳和喷淋板围合形成有上腔室，装置包括：扩散器，可竖向移动调节地设于上腔室内且位于喷淋板的上方；驱...
    2025-05-31
  • 一种可调控温度的化学气相沉积金刚石反应器及调控方法
    一种可调控温度的化学气相沉积金刚石反应器及调控方法_郑州磨料磨具磨削研究所有限公司_202510337975.1
    本发明提出了一种可调控温度的化学气相沉积金刚石反应器及调控方法，包括：微波等离子体反应器腔室，用于耦合微波能量并激发等离子体；水冷台，设置在微波等离子体反应器腔室内用于支撑和冷却金刚石生长基材；金刚石生长基材，设置在水冷台上作为金刚石生长的...
    2025-05-31
  • 化学气相沉积装置
    化学气相沉积装置_乐金显示光电科技(中国)有限公司_202422027065.7
    本实用新型涉及显示装置制造技术领域，公开一种化学气相沉积装置，具有反应腔室，化学气相沉积装置包括：下电极和多个支撑销，下电极安装于反应腔室底部，支撑销穿设于下电极，下电极可沿支撑销长度方向运动；矫正组件，反应腔室内对应玻璃基板每个侧面分别设...
    2025-05-31
  • 一种耐高温轻质隐身涂层材料及其制备方法
    一种耐高温轻质隐身涂层材料及其制备方法_山东中航泰达复合材料有限公司_202510527151.0
    一种耐高温轻质隐身涂层材料及其制备方法，属于功能材料技术领域，所述耐高温轻质隐身涂层材料的原料组成包括硼化物、硅化物、钛酸盐助熔剂、金属包覆碳化物、氧化锌包覆纳米碳材料、烧结助剂；本发明制备的耐高温轻质隐身涂层材料，3~5μm波长处的红外发...
    2025-05-31
  • 一种TC轴承表面材料喷涂装置
    一种TC轴承表面材料喷涂装置_潍坊市宇宏石油机械有限公司_202510541165.8
    本发明涉及轴承表面材料喷涂技术领域，具体为一种TC轴承表面材料喷涂装置，包括等离子喷涂机本体和安装在等离子喷涂机本体上的喷头，所述喷头对TC轴承表面喷涂WC合金粉末，所述等离子喷涂机本体外侧设有支撑台，所述支撑台上安装有轴承移动定位机构；本...
    2025-05-31
  • 不锈钢托盘
    不锈钢托盘_东莞新科技术研究开发有限公司_202311628605.0
    本发明公开了一种不锈钢托盘，其包括不锈钢托盘本体、结合层、过渡层和第一复合物层，其中，结合层为金属Cr层，其以Cr靶为靶材，通过磁控溅射离子镀沉积在不锈钢托盘本体上；过渡层为CrC层，其以Cr靶和平面C靶为靶材，通过磁控溅射离子镀沉积在结合...
    2025-05-31
  • 用于沉积膜的方法
    用于沉积膜的方法_弗萨姆材料美国有限责任公司_202080090123.2
    本发明公开了一种用于将膜沉积到衬底的表面特征中的原子层沉积方法。所述方法可以包括将具有表面特征的衬底放置到反应器中的步骤。有机钝化剂可引入所述反应器中，其可与表面特征内的一部分暴露的羟基反应。随后，可以吹扫未反应的有机钝化剂，并且然后可以引...
    2025-05-31
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