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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本申请公开了一种用于硅钢叠片转子/定子的防腐保护涂层及制备方法。该防腐保护涂层包括硅钢叠片基体,其表面分布有微凸凹复合结构;微凸凹复合结构的算术平均粗糙度值为0.5‑1.0 μm;单位面积的微凸凹复合结构密度不小于50个/mm²;微凸凹复合...
  • 本实用新型属于汽车表面涂层技术领域,提供了一种塑料基材具有蓝色颜色且透白光效果的膜层结构,包括有基材层,基材层的表面上溅射有复合镀膜层,该复合镀膜层包括有钛氮化物层、金属铟/铝层以及金属钛层,钛氮化物层、金属铟/铝层以及金属钛层依次溅射在基...
  • 本实用新型属于带钢镀锌处理技术领域,具体公开了一种可以提高带钢表面镀层均匀度的装置,包括镀锌池,镀锌池顶部一端外部设置有清理机构,镀锌池底部设置有加热机构,且镀锌池内部设置有搅动机构,搅动机构包括水平转动安装在镀锌池中部位置的驱动轴,驱动轴...
  • 本发明提供了一种二硫属复合薄膜及其制备方法和应用,涉及固体润滑材料技术领域。本发明提供了一种二硫属复合薄膜,包括过渡金属二硫属化合物和掺杂在所述过渡金属二硫属化合物中的掺杂物;所述掺杂物包括掺杂金属,所述掺杂金属包括锡、铋或锡铋合金。本发明...
  • 本发明公开了一种可调节靶基距的磁控设备用扫描小车,包括:基片盘、支撑架、车架、高度调节组件、高度调节座和移动轮组;高度调节座设置在磁控设备的溅射腔体内,并位于溅射靶下方;移动轮组安装在车架的外侧部,并与驱动机构连接,以带动车架在溅射腔体内往...
  • 提供了用于处理基板的方法和装置。在一些实施例中,一种方法包括:在基板上以及设置在所述基板的介电层中的特征内沉积金属缓冲层。使用第一物理气相沉积(PVD)工艺在小于500 mTorr的腔室压力下沉积所述缓冲层,同时如果所述腔室压力小于或等于3...
  • 本发明公开了一种削减大口径镜片应力的镀膜方法。削减大口径镜片应力的镀膜方法,包括:S1:镜片预处理;S2:镀膜材料选择与准备;S3:离子束辅助镀膜:S4:离散膜层设计与沉积:S5:退火:退火处理,在真空环境中对镜片进行退火处理。本发明提供的...
  • 本发明涉及一种用于带锯条镀膜前处理的方法,包括对待镀膜处理的带锯条进行锯切钝化处理,在齿尖形成20‑100μm的倒角,锯切钝化处理包括采用带锯条对锯切材料进行锯切。本发明提供的上述技术方案,可以有效提高锯齿的硬度,提高带锯条的使用寿命和锯切...
  • 本实用新型涉及工装技术领域,公开了一种脱脂酸洗钝化工装,包括固定机构,所述固定机构上端卡接设置有脱脂及酸洗钝化机构,所述固定机构包括两个固定架,两个所述固定架上端滑动设置有夹板,两个所述固定架其中一个的一侧固定设置有电机,所述脱脂及酸洗钝化...
  • 本发明公开了一种具有连续进料功能的钙钛矿膜层制备系统和方法。该系统包括:传动装置、基片架装置、喷涂装置、预风干装置、抽真空干燥装置和蒸镀装置,基片架装置在传动装置的带动下移动,基片架装置具有安装空腔,安装空腔上侧具有第一开口,安装空腔下侧具...
  • 一种耐高温选择性发射红外隐身材料,为层状结构,依次包括基底层、金属层和氮化硅层;所述金属层的厚度为50nm‑1000nm;所述氮化硅层的厚度为1.2μm‑1.8μm。该红外隐身材料的制备方法:(1)将基底材料清洗、干燥;(2)采用磁控溅射法...
  • 本发明公开了一种高sp3C含量的含氢碳基薄膜及其制备方法,步骤包括将表面经过处理后的导电金属工件置于真空镀膜装置的真空室中,真空室内安装了至少一个磁控靶阴极和至少一个离化源电极,采用等离子体对导电金属工件的表面进行刻蚀...
  • 本发明一种新型TC‑SAW工艺,属于温度补偿型声表面波滤波器领域,现有制备工艺中IDT金属叉指条会被等离子气体刻蚀或者腐蚀,造成IDT金属叉指条形貌缺陷,影响滤波器性能的问题。本发明是在叉指电极表面沉积SiO2温度补偿...
  • 切削工具是具备基材和配置于所述基材上的覆膜的切削工具,其中,所述覆膜包含位于所述基材上的第一层、位于所述第一层上的第二层以及位于所述第二层上的第三层,所述第一层由碳氮化钛构成,所述第二层由氧化铝构成,所述第三层由碳氮化钛构成,所述第一层的残...
  • 本发明公开了一种用于CVD法中有张紧装置的反应炉,其特征是所述的反应炉包括张紧装置、输送装置和炉体,输送装置包括带和辊,辊包括主动辊和被动辊;炉体包括初始段、伸缩段、反应段和出料段,伸缩段包括上伸缩段和下伸缩段,反应段包括加热炉体和返回炉体...
  • 本发明属于复合材料制备技术领域,具体涉及一种SiCf/TiMoNb异质芯材增强GH4169复合材料的制备方法。该制备方法的过程如下:使用磁控溅射法将TiMoNb合金基体沉积到SiC纤维表面形成先驱丝,将得到的先驱丝与G...
  • 本发明公开了一种用于磁控溅射镀膜设备的基片加热装置,包括:驱动元件、联轴器、磁流体组件、加热挡板和灯管组件;驱动元件设置在磁控溅射镀膜设备的腔体外侧,驱动元件的输出端通过联轴器与磁流体组件连接,磁流体组件密封贯穿至磁控溅射镀膜设备的腔体内,...
  • 本发明公开了一种锆或锆合金表面制备的氧化锆硬化层及方法和应用,属于医用锆或锆合金表面改性技术领域,所述方法采用等离子体增强化学气相沉积的方式对锆或锆合金进行等离子渗氧处理,渗氧温度为200~1000℃,渗氧时间为8~24h,在锆或锆合金表面...
  • 本实用新型涉及空心沉没辊相关技术领域,尤其涉及一种具有配重结构的空心沉没辊,包括沉没辊,所述沉没辊的一侧螺纹连接有耐磨层,所述耐磨层的一端固定连接有密封片,所述密封片的一端固定连接有连接轴,在使用过程中,通过镍箔材质传动轴的设置,镍箔材质能...
  • 本发明提供一种横流式原子层沉积设备。设备包括外腔、内反应腔、横流进气装置、底部加热器及支撑夹具;横流进气装置位于内反应腔的一侧,且与内反应腔连通;内反应腔的底面部分向上凸起而形成凹槽,底部加热器至少部分位于凹槽内,且与内反应腔的底面贴合;支...
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