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恒超源洗净科技(深圳)有限公司曾献金获国家专利权

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龙图腾网获悉恒超源洗净科技(深圳)有限公司申请的专利一种适用于半导体晶圆片的超声波清洗装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120079638B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510578452.6,技术领域涉及:B08B3/12;该发明授权一种适用于半导体晶圆片的超声波清洗装置是由曾献金;刘燕飞;曹佳;孔国华设计研发完成,并于2025-05-07向国家知识产权局提交的专利申请。

一种适用于半导体晶圆片的超声波清洗装置在说明书摘要公布了:本发明属于半导体制造技术领域,具体涉及一种适用于半导体晶圆片的超声波清洗装置,包括箱体,所述箱体的内部固定连接有分隔座,通过所述分隔座将箱体内部分为清洗腔和回收腔;固定组件,所述固定组件设置于清洗腔内,用于固定待清洗晶圆;第一辅助机构,所述第一辅助机构包括设置于箱体上端的循环部,所述循环部上设置有联动部;驱动机构,所述驱动机构安装于箱体的下端,用于其它部件运行;第二辅助机构,所述第二辅助机构包括设置于箱体上的风干部,所述回收腔的内部设置有除杂部,所述除杂部的下端设置有传动部,所述除杂部处还设置有清洁部。本发明能够实现半导体晶圆片高效、全面的清洗、风干及清洗液的净化与再利用。

本发明授权一种适用于半导体晶圆片的超声波清洗装置在权利要求书中公布了:1.一种适用于半导体晶圆片的超声波清洗装置,其特征在于:包括箱体(1),所述箱体(1)的内部固定连接有分隔座(2),通过所述分隔座(2)将箱体(1)内部分为清洗腔(11)和回收腔(12); 固定组件(3),所述固定组件(3)设置于清洗腔(11)内,用于固定待清洗晶圆; 第一辅助机构(4),所述第一辅助机构(4)包括设置于箱体(1)上端的循环部(41),所述循环部(41)上设置有联动部(42); 驱动机构(5),所述驱动机构(5)安装于箱体(1)的下端,用于其它部件运行; 第二辅助机构(6),所述第二辅助机构(6)包括设置于箱体(1)上的风干部(61),所述回收腔(12)的内部设置有除杂部(62),所述除杂部(62)的下端设置有传动部(63),所述除杂部(62)处还设置有清洁部(64); 通过所述驱动机构(5)带动风干部(61)或清洁部(64)运作,并通过传动部(63)带动除杂部(62)运作,风干部(61)运作时对清洗后的晶圆进行风干,除杂部(62)运作时去除清洗液中的部分杂质; 所述固定组件(3)包括两个夹板(32),其中一个所述夹板(32)上固定连接有导向柱(33),且另一个夹板(32)滑动连接在导向柱(33)上,所述导向柱(33)的上端套设有第一压簧(34),两个所述夹板(32)上均呈阵列分布的设置有固定架(35),所述固定架(35)上呈阵列分布的转动连接有限位杆(36),所述固定架(35)上还呈阵列分布的固定镶嵌有套筒(37),所述套筒(37)的一端插接有抵触块(38),且抵触块(38)与套筒(37)之间固定连接有第二压簧(39),下方的多个所述固定架(35)上其中的一列限位杆(36)相互连接在一起,并在两端安装有第一联动齿轮(310),所述清洗腔(11)的两侧均开设有滑槽(31),且下方所述夹板(32)的两端均设置有凸块; 所述清洁部(64)包括刷板(641),两个所述刷板(641)均设置在回收腔(12)内,所述刷板(641)的两侧均固定连接有移动杆(642),所述移动杆(642)的外壁套设有滑套(643),且滑套(643)通过支杆与回收腔(12)的内壁固定连接,所述移动杆(642)的一端固定连接有弹簧(644),且弹簧(644)的另一端与滑套(643)固定连接,两个所述移动杆(642)之间利用支板固定连接有活塞杆(645),且活塞杆(645)与箱体(1)活塞式插接,两个所述活塞杆(645)的一端固定连接有受力架(646)。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人恒超源洗净科技(深圳)有限公司,其通讯地址为:518000 广东省深圳市龙岗区平湖街道鹅公岭社区东深公路163号A栋101;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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