艾庞半导体科技(四川)有限公司周磊获国家专利权
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龙图腾网获悉艾庞半导体科技(四川)有限公司申请的专利一种半导体晶圆边缘抛光装置及其抛光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120116125B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510570517.2，技术领域涉及：B24B29/02；该发明授权一种半导体晶圆边缘抛光装置及其抛光方法是由周磊;丁媛;侯斌;周富设计研发完成，并于2025-05-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种半导体晶圆边缘抛光装置及其抛光方法在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体晶圆加工技术领域，具体为一种半导体晶圆边缘抛光装置及其抛光方法，包括作业平台、抛光部、定位单元和驱动部。本发明首先通过基准板的基准面作为放置过程中的放置基准，确保了晶圆位置的精准度，保证了加工精度，其次通过辅压部平衡晶圆在加工处抛光产生的作用力，避免晶圆受力不平衡导致其出现损坏的问题，以及通过控制升降板下移的距离，严格控制磨盘靠近磨盘的移动距离，避免在移动接触晶圆的过程中磨盘施加在晶圆上的应力过大，同时避免磨盘与晶圆过度接触导致晶圆过度抛光。
本发明授权一种半导体晶圆边缘抛光装置及其抛光方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体晶圆边缘抛光装置，其特征在于，包括： 作业平台，所述作业平台上固定设置有三个平台板，作业平台上设置有抛光机构，抛光机构包括承托板，作业平台上转动设置有三个用于承托放置晶圆的承托板，作业平台上设置有用于将晶圆压在承托板上的下压板； 所述平台板上设置有用于对晶圆边缘抛光的抛光部，抛光部包括用于抛光晶圆边缘的磨盘，作业平台上设置有用于承托并定位晶圆的定位单元； 所述作业平台上设置有驱动部，驱动部驱使定位单元对晶圆进行定位锁紧并驱动磨盘移动指定距离对晶圆进行边缘抛光； 所述定位单元包括基准板，作业平台上设置有上下滑动的基准板，基准板朝向三个平台板的端面从上至下依次为避让面和基准面，避让面和基准面的轴线与承托板轴线共线，基准面与晶圆相对时，以晶圆贴合基准面作为放置基准，避让面与晶圆相对时，对晶圆进行边缘抛光； 所述基准板上设置有辅压部，通过辅压部维持晶圆上自磨盘与晶圆接触点至基准板之间的受力平衡。
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