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申请/专利权人：富士施乐株式会社
申请日：2002-03-05
公开（公告）日：2003-04-02
公开（公告）号：CN1406865A
专利技术分类：
专利摘要：一种纳米线，包含内芯部分12和形成在内芯部分12周围的功能层14，其中内芯部分12由具有至少一层石墨片12a、12b的碳纳米管制成，并且功能层14具有至少一层改性的石墨片，其中的石墨片已被改性；此纳米线的生产方法；使用此纳米线的纳米网；此纳米网的生产方法；使用此纳米线的碳结构以及使用此纳米线的电子装置。
专利权项：1、一种纳米线，包含：内芯部分，此内芯部分中具有一碳纳米管，此碳纳米管中具有至少一层石墨片；和功能层，此功能层形成在内芯部分的周围并且具有至少一层改性石墨片。
百度查询： 富士施乐株式会社 纳米线、纳米线的生产方法和该纳米线的应用
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