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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112346303B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010736750.0，技术领域涉及：G03F7/16；该发明授权基片处理装置是由新村聪;坂井勇治;柴崎健太;高柳康治;矢田健二;稻田博一;关慎一;绪方健人设计研发完成，并于2020-07-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本基片处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基片处理装置。基片处理装置包括：遮罩部件，其配置成包围由旋转保持部保持的基片的周围；收集部件，其配置于遮罩部件与旋转保持部之间的排气路径；和溶剂供给部，其配置在收集部件的上方，构成为能够对收集部件供给溶剂。溶剂供给部包括：内侧贮存室，其构成为当从上方观察时包围基片的周围；外侧贮存室，其构成为当从上方观察时包围内侧贮存室的周围；和分隔壁，其以划分出内侧贮存室和外侧贮存室的方式沿周向延伸。多个连通孔以被导入到外侧贮存室的溶剂能够向内侧贮存室流通的方式贯通分隔壁地形成。多个滴落孔以内侧贮存室内的溶剂能够向收集部件滴落的方式贯通内侧贮存室的底壁地形成。本发明能够有效地除去棉状块。

本发明授权基片处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括： 旋转保持部，其构成为能够保持基片并使其旋转； 涂敷液供给部，其构成为能够对所述基片供给涂敷液； 遮罩部件，其配置成包围由所述旋转保持部保持的所述基片的周围； 收集部件，其配置于所述遮罩部件与所述旋转保持部之间的排气路径；和 溶剂供给部，其配置在所述收集部件的上方，构成为能够对所述收集部件供给溶剂， 所述溶剂供给部包括： 内侧贮存室，其构成为当从上方观察时包围所述基片的周围； 外侧贮存室，其构成为当从上方观察时包围所述内侧贮存室的周围；和 分隔壁，其以划分出所述内侧贮存室和所述外侧贮存室的方式沿所述基片的周向延伸， 在所述内侧贮存室形成有沿所述周向按规定间隔排列的多个滴落孔， 在所述外侧贮存室形成有供溶剂导入的导入孔， 在所述分隔壁形成有沿所述周向按规定间隔排列的多个连通孔， 所述多个连通孔以被导入到所述外侧贮存室的溶剂能够向所述内侧贮存室流通的方式贯通所述分隔壁地形成， 所述多个滴落孔以所述内侧贮存室内的溶剂能够向所述收集部件滴落的方式贯通所述内侧贮存室的底壁地形成。

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