广州鑫铂颜料科技有限公司卢世义获国家专利权
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龙图腾网获悉广州鑫铂颜料科技有限公司申请的专利一种具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112505813B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011389068.5,技术领域涉及:G02B5/28;该发明授权一种具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜是由卢世义设计研发完成,并于2020-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜在说明书摘要公布了:本发明公开了一种具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜,属于薄膜技术领域,包括玻璃基层和折射膜层组成,折射膜层由多层的高折射率膜层和多层的低折射率膜层交替层叠组成,全介质薄膜反射率大于85%;全介质薄膜的反射光谱从截止区到高反射区的过段波段斜率为1.1‑1.4之间,600nm以下波长为截止区间;全介质薄膜反射在600‑800nm红色颜色映射上介于0‑45°之间具有较小的偏移色差,Lab*a*b颜色映射在30‑45°之间;本发明的薄膜结构颜色偏移效果不明显,可有效的满足角度不敏感性的需要,且薄膜的结构色具有不褪色,且具有环保、金属闪烁效果和随角异色等特点可广泛在各个领域中应用。
本发明授权一种具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜在权利要求书中公布了:1.一种具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜,其特征在于:由玻璃基层001和折射膜层002组成,所述折射膜层002由多层的高折射率膜层201和多层的低折射率膜层202交替层叠组成; 所述全介质薄膜的反射率大于85%; 所述全介质薄膜的反射光谱从截止区到高反射区的过渡波段斜率为1.1-1.4之间,其中600nm以下波长为截止区间; 所述全介质薄膜反射在600-800nm红色颜色映射上介于0-45°之间具有较小的偏移色差,Lab*a*b颜色映射在30-45°之间。
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