铠侠股份有限公司中冈聡获国家专利权
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龙图腾网获悉铠侠股份有限公司申请的专利衬底处理装置及半导体装置的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114121713B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110163164.6，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权衬底处理装置及半导体装置的制造方法是由中冈聡;桥本有司;藤田博设计研发完成，并于2021-02-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本衬底处理装置及半导体装置的制造方法在说明书摘要公布了：本申请案涉及一种衬底处理装置及半导体装置的制造方法。实施方式提供一种可容易提高衬底面内的药液处理的均匀性的衬底处理装置。一实施方式的衬底处理装置具备：处理槽，存放处理多块衬底的药液；配管，具有将药液或气泡喷出到处理槽内的喷出口；多根杆状体，在处理槽内支撑多块衬底；及转换机构，设置在多根杆状体或处理槽，将由从配管喷出的药液或气泡施加到各衬底的振动转换成以衬底的中心为旋转轴的一方向旋转。
本发明授权衬底处理装置及半导体装置的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种衬底处理装置，其中具备： 处理槽，存放处理多块衬底的药液； 配管，具有将所述药液或气泡喷出到所述处理槽内的喷出口； 多根杆状体，在所述处理槽内支撑所述多块衬底；及 转换机构，设置在所述多根杆状体或所述处理槽，将由从所述配管喷出的所述药液或所述气泡施加到各衬底的振动转换成以所述衬底的中心为旋转轴的一方向旋转； 所述转换机构包含： 多个凹部，沿着所述多块衬底的排列方向设置在各杆状体；及 山脉状的多个突起部，设置在各凹部的底部，朝所述一方向倾斜。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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