东京毅力科创株式会社菊池俊彦获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利蚀刻处理装置、石英构件及等离子体处理方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113948363B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110771521.7,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权蚀刻处理装置、石英构件及等离子体处理方法是由菊池俊彦;长山将之设计研发完成,并于2021-07-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本蚀刻处理装置、石英构件及等离子体处理方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种抑制颗粒的产生的蚀刻处理装置、石英构件以及等离子体处理方法。一种蚀刻处理装置,其具备:载置基板的载置台;收容上述载置台的腔室;在上述腔室内生成等离子体的等离子体生成部以及配置于生成上述等离子体的空间的环状的石英构件,上述石英构件具有对在生成上述等离子体的空间中露出的表面进行覆盖的涂膜,上述涂膜由与石英不同的材料形成,且具有10nm以上且小于800nm的厚度。
本发明授权蚀刻处理装置、石英构件及等离子体处理方法在权利要求书中公布了:1.一种等离子体处理方法,其具有下述工序: 在环状石英构件上形成10nm以上且小于800nm的涂膜的工序; 将所述环状石英构件安装于蚀刻处理装置的工序; 在所述蚀刻处理装置内生成等离子体,除去所述环状石英构件的所述涂膜的一部分的工序; 将基板搬入至所述蚀刻处理装置的工序;以及 将所述基板进行蚀刻处理的工序。
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