泉州市三安集成电路有限公司朱庆芳获国家专利权
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龙图腾网获悉泉州市三安集成电路有限公司申请的专利嵌入式电感结构及其制作方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114094013B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111256531.3,技术领域涉及:H10D1/20;该发明授权嵌入式电感结构及其制作方法是由朱庆芳设计研发完成,并于2021-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本嵌入式电感结构及其制作方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种嵌入式电感结构及其制作方法,电感结构包括具有一定深度的沟渠的衬底,在沟渠底部上依次设有沿沟渠的深度方向多层间隔的线圈结构,线圈结构包括金属层以及依次包裹在金属层侧壁的第一介电层和粘附层,线圈结构通过粘附层附着在沟渠的侧壁上,粘附层还包覆在金属层和第一介电层的底面,相邻间隔的两个线圈结构通过金属连接柱相连,多个线圈结构通过金属连接柱相连形成嵌入在衬底内的电感结构。采用DRIE与深度终点探测工艺形成具有垂直侧壁的沟渠,线圈结构的圈数可以根据需求进行调整,并实现电感值的可变控制,最终达到优化效能的目标。
本发明授权嵌入式电感结构及其制作方法在权利要求书中公布了:1.一种嵌入式电感结构,其特征在于,包括具有一定深度的沟渠的衬底,在所述沟渠底部上依次设有沿所述沟渠的深度方向多层间隔的线圈结构,相邻间隔的两个所述线圈结构之间设有第二介电层或空气腔,多个线圈结构和第二介电层或空气腔层叠设置在沟渠里面构成嵌入式电感,所述线圈结构包括金属层以及所述金属层周围的第一介电层和粘附层,所述第一介电层和粘附层依次包裹在所述金属层的侧壁,所述线圈结构通过所述粘附层附着在所述沟渠的侧壁上,所述粘附层还包覆在所述金属层和所述第一介电层的底面,相邻间隔的两个所述线圈结构通过金属连接柱相连。
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