拓荆科技股份有限公司G·Y·金获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆科技股份有限公司申请的专利半导体处理装置及方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116356285B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111574186.8,技术领域涉及:C23C16/455;该发明授权半导体处理装置及方法是由G·Y·金;张阁设计研发完成,并于2021-12-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体处理装置及方法在说明书摘要公布了:本申请涉及一种半导体处理装置及方法。在本申请的一个实施例中,半导体处理装置包括:工艺腔;气体源;以及气体管线,其耦接在所述气体源与所述工艺腔之间;其中所述气体管线上设置有流通能力可调的限流部件,所述限流部件用以控制所述气体管线中的气体流速。
本发明授权半导体处理装置及方法在权利要求书中公布了:1.一种半导体处理装置,包括工艺腔、气体源、反应源物质槽、气体管线、第一管线、第二管线、支路、流通能力可调的限流部件及控制器,其中, 所述气体管线耦接在所述气体源与所述工艺腔之间,其上设置有所述限流部件、第一进气阀及第四进气阀,所述限流部件用以控制所述气体管线中的气体流速,所述第一进气阀耦接在所述气体源与所述限流部件之间,所述第四进气阀耦接在所述工艺腔与所述限流部件之间, 所述反应源物质槽通过所述第一管线耦接到位于所述第一进气阀一端的所述气体管线,并通过第二管线耦接到位于所述第一进气阀另一端的所述气体管线,所述第一管线上设置有第二进气阀,所述第二管线上设置有第三进气阀, 所述支路的一端耦接在所述第四进气阀与所述限流部件之间的所述气体管线上,并且另一端耦接到真空泵,所述支路上设置有排气阀, 所述控制器被配置为: 在预填充阶段期间,关闭所述第一进气阀和所述第四进气阀,打开所述第二进气阀、所述第三进气阀和所述排气阀,并控制所述限流部件以第二流通量操作; 在反应源物质注入阶段期间,关闭所述第一进气阀和所述排气阀,打开所述第二进气阀、所述第三进气阀和所述第四进气阀,并控制所述限流部件以第一流通量操作,其中,所述第一流通量大于所述第二流通量;以及在净化阶段期间,关闭所述第二进气阀、所述第三进气阀和所述第四进气阀,打开所述第一进气阀和所述排气阀,并控制所述限流部件以所述第二流通量操作。
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