中南大学;云南贵金属实验室有限公司潘军获国家专利权
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龙图腾网获悉中南大学;云南贵金属实验室有限公司申请的专利Ti@TiO2阵列@CuxPt合金复合电极及其制备和在光电催化NO3 -还原制氨中的应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119980345B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510483939.6,技术领域涉及:C25B11/093;该发明授权Ti@TiO2阵列@CuxPt合金复合电极及其制备和在光电催化NO3 -还原制氨中的应用是由潘军;童家鑫;谭鹏飞;刘锋;谢建平设计研发完成,并于2025-04-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本Ti@TiO2阵列@CuxPt合金复合电极及其制备和在光电催化NO3 -还原制氨中的应用在说明书摘要公布了:本发明属于光电催化制氨领域,具体公开了一种Ti@TiO2阵列@CuxPt合金复合电极及其制备和在光电催化NO3 ‑还原制氨中的应用,其中,所述的Ti@TiO2阵列@CuxPt合金复合电极包括Ti基底、原位生长在Ti基底表面的TiO2纳米片阵列、弥散分布在TiO2纳米片阵列上的纳米CuxPt合金颗粒;TiO2纳米片阵列中的TiO2纳米片沿Ti基底的Z轴方向生长;所述的纳米CuxPt合金颗粒和TiO2纳米片阵列之间存在异质界面。本发明所述的自支撑材料,具有优异的产NH3活性、法拉第效率和稳定性。
本发明授权Ti@TiO2阵列@CuxPt合金复合电极及其制备和在光电催化NO3 -还原制氨中的应用在权利要求书中公布了:1.一种Ti@TiO2阵列@CuxPt合金复合电极,其特征在于,包括Ti基底、原位生长在Ti基底表面的TiO2纳米片阵列、弥散分布在TiO2纳米片阵列上的纳米CuxPt合金颗粒; TiO2纳米片阵列中的TiO2纳米片沿Ti基底的Z轴方向生长; 所述的纳米CuxPt合金颗粒和TiO2纳米片阵列之间存在异质界面; 纳米CuxPt合金颗粒粒径为1~30nm,其中,CuPt金属元素的重量比为60~450:1; 所述的Ti@TiO2阵列@CuxPt合金复合电极中,纳米CuxPt合金颗粒的重量含量为35~45Wt.%; 所述的Ti@TiO2阵列@CuxPt合金复合电极的制备步骤包括: 步骤1: 将Ti基底置于碱液中并在温度T1下进行水热处理,再将水热处理产物预先经酸液离子交换随后进行退火处理,制得在Ti基底上原位生长有TiO2纳米片阵列的Ti@TiO2阵列; 其中,所述的碱液中碱性溶质的浓度为2~6M;温度T1为150~200℃;温度T1下的保温时间为6~12h;酸液中的酸性溶质的浓度为1~2M;退火温度为300~500℃; 步骤2: 将Ti@TiO2阵列和含有Cu源、Pt源、碱、乙二醇和DMF的混合溶液混合,并在温度T2下进行溶剂热处理,制得在Ti@TiO2阵列上沉积有纳米CuxPt合金颗粒的Ti@TiO2阵列@CuxPt合金复合电极; 混合溶液中,Cu源浓度3~15mgmL;碱的浓度为20~80mgmL;温度T2为140~180℃;温度T2下的保温时间为6~10h。
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