恭喜株式会社斯库林集团小林健司获国家专利权
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龙图腾网恭喜株式会社斯库林集团申请的专利基板处理方法、半导体制造方法及基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113614887B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080022944.2，技术领域涉及：H01L21/304；该发明授权基板处理方法、半导体制造方法及基板处理装置是由小林健司;佐藤雅伸;中野佑太设计研发完成，并于2020-01-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法、半导体制造方法及基板处理装置在说明书摘要公布了：在基板处理方法中，对具有包含多个构造物63的图案PT的基板W进行处理。基板处理方法包括下述工序：针对多个构造物63执行使用非液体的规定处理，与执行规定处理前相比使多个构造物63各自的表面62的亲水性增大的工序S1；以及在使亲水性增大的工序S1后，向多个构造物63供给处理液的工序S3。
本发明授权基板处理方法、半导体制造方法及基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，其对具有包含多个构造物在内的图案的基板进行处理，所述基板处理方法的特征在于， 所述多个构造物形成于所述基板的表面，彼此相邻的所述构造物之间的距离为3nm以下， 所述基板处理方法包括下述工序： 针对所述多个构造物执行使用非液体的规定处理，与执行所述规定处理之前相比使所述多个构造物各自的表面的亲水性增大的工序；以及 在使亲水性增大的所述工序后，向所述多个构造物彼此之间的空间供给处理液，并执行针对所述多个构造物的处理的工序， 在使亲水性增大的所述工序中，相对于所述多个构造物执行所述规定处理，以使得所述多个构造物具有与在所述处理液向所述构造物彼此之间的空间渗透的渗透时间恒定时的接触角相当的亲水性， 所述接触角为所述处理液的表面与所述构造物的表面所成的角度。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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