恭喜ASML荷兰有限公司R·J·拉法克获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利极紫外光源中的目标扩展速率控制获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113966061B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111336436.4,技术领域涉及:H05G2/00;该发明授权极紫外光源中的目标扩展速率控制是由R·J·拉法克;D·J·里格斯设计研发完成,并于2016-08-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本极紫外光源中的目标扩展速率控制在说明书摘要公布了:本公开涉及极紫外光源中的目标扩展速率控制。一种方法,包括:提供目标材料,目标材料包括在被转换为等离子体时发射极紫外EUV光的成分;朝向目标材料引导第一辐射束以向目标材料传递能量以修改目标材料的几何分布以形成经修改的目标;朝向经修改的目标引导第二辐射束,第二辐射束将经修改的目标的至少一部分转换为发射EUV光的等离子体;测量相对于第一辐射束的与目标材料和经修改的目标中的一个或多个相关联的一个或多个特性;以及基于测量的一个或多个特性来将从第一辐射束向目标材料传递的辐射曝光量控制在预定能量范围内。
本发明授权极紫外光源中的目标扩展速率控制在权利要求书中公布了:1.一种用于极紫外EUV光源的装置,所述装置包括:光学装置,被配置为使第一辐射束在腔室内与目标材料相互作用,以形成经修改后的目标;第一测量系统,包括传感器,被配置为接收所述目标材料与所述第一辐射束相互作用时从所述目标材料反射的辐射;第二测量系统,包括多个测量子系统,每一个子系统被配置为测量从所述第一辐射束与所述目标材料之间的相互作用形成的所述经修改的目标的空间方面;以及控制系统,与所述第一测量系统和所述第二测量系统通信,所述控制系统被配置为分析来自所述第一测量系统和所述第二测量系统的输出,并且向所述光学装置发送基于所述分析的信息。
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