恭喜朗姆研究公司卡蒂·林恩·纳尔迪获国家专利权
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龙图腾网恭喜朗姆研究公司申请的专利使用碳氟化合物阻止层的形貌选择性和区域选择性ALD获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112041966B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980024270.7，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权使用碳氟化合物阻止层的形貌选择性和区域选择性ALD是由卡蒂·林恩·纳尔迪;尼莉莎·德雷格设计研发完成，并于2019-03-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本使用碳氟化合物阻止层的形貌选择性和区域选择性ALD在说明书摘要公布了：一种用于选择性沉积膜的方法包括：a将衬底布置在处理室中。所述衬底包括第一材料和第二材料，所述第一材料被暴露并且包含氧化硅SiOz，所述第二材料被暴露并且选自由硅Si和氮化硅SixNy组成的组，其中z、x和y是定义元素的化学比的数字。所述方法包括：b供应包含碳氟化合物物质和氢物质的第一气体混合物；c激励等离子体持续第一预定时间段以在所述衬底上沉积碳氟化合物层；d从所述处理室中去除所述第一气体混合物；e供应惰性气体混合物并激励等离子体持续第二预定时间段以执行激活步骤；以及f从所述处理室中去除所述惰性气体混合物。
本发明授权使用碳氟化合物阻止层的形貌选择性和区域选择性ALD在权利要求书中公布了：1.一种用于选择性沉积膜的方法，其包括：a将衬底布置在处理室中，其中，所述衬底包括第一材料和第二材料，所述第一材料被暴露并且包含氧化硅SiOz，所述第二材料被暴露并且选自由硅Si和氮化硅SixNy组成的组，其中z、x和y是定义元素的化学比的数字；b供应包含碳氟化合物物质和氢物质的第一气体混合物；c激励等离子体持续第一预定时间段以在所述衬底上沉积碳氟化合物层；d从所述处理室中去除所述第一气体混合物；e供应第二气体混合物并激励等离子体持续第二预定时间段以执行去除步骤；以及f从所述处理室中去除所述第二气体混合物。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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